RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國際最先進的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結構；采用獨有的、zhuanli的SBCA晶體，實現X射線的單色掃描；采用小功率的X-Ray源，使研究試驗室內就能夠方便運行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究，能夠獲得掃描范圍5keV-12keV，分辨率優于1eV的譜線。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，將信號探測、掃描控制、數據顯示高度集成化，使用前只需簡單的參數設置、校準確認，即可方便進行研究試驗。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，作為一種目前國際最新型的儀器，為各種材料研究分析拓展手段，用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究，而不再受到條件限制。可廣泛應用于各種材料研究分析領域，包括納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等。將成為材料研究必選設備。

v 產品特點(Features)

? 新原理新構造：居于新原理和新構造的X-ray光譜儀；

? 高分辨率：    采用獨有的、zhuanli的SBCA晶體作為核心器件，實現X射線單色掃描，分辨率達到1eV；

? 高品質能譜曲線：與同步輻射相當品質的能譜曲線；

? 試驗室儀器：  在試驗室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到條件限制；

? 高集成性：    儀器集成探測、控制、分析，軟件運行于Windows操作系統；

? 應用面廣：    納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等各種材料研

究分析領域

v 技術指標(Specification)